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电子束光刻胶 I-line 光刻胶 光刻胶底层材料
产品覆盖正性、负性光刻胶。具有高膜厚均匀性和高分辨率。
适用于：TSV，RDL，Bump。
KX557 光刻胶
产品体系：I-Line 正性光刻胶 应用领域：IC 耐刻蚀、离子注入 膜厚范围：0.6~1.5μm分辨率：FT@1μm，CD@0.35μm产品特点：高分辨率、高陡直度、低能量
KX150 光刻胶
产品体系：GHI-Line 正性光刻胶 应用领域：先进封装、RDL膜厚范围：5~25μm分辨率：FT@15μm，CD@7μm产品特点：高膜厚、高陡直度、耐电镀
